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      技術(shù)專區(qū)

      技術(shù)專區(qū)TECHNICAL AREA

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      技術(shù)成就

       


      產(chǎn)品研發(fā)

       

      時(shí)間 研發(fā)成果
      1998年3月  國(guó)內(nèi)第一張大面積高精度鉻版掩膜版
      2002年6月  國(guó)內(nèi)第一套彩色濾光片用掩膜版
      2002年2月  國(guó)內(nèi)第一張大面積石英鉻版掩膜版
      2005年12月  國(guó)內(nèi)第一張激光束光刻直寫Reticle掩膜版(0.5um IC用掩膜版)
      2006年1月  國(guó)內(nèi)第一張彩色液晶顯示器用大面積石英掩膜版
      2007年3月  國(guó)內(nèi)第一張OLED用大面積鉻版掩膜版
      2007年8月  國(guó)內(nèi)第一張5代TFT用掩膜版生產(chǎn)線
      2008年3月  國(guó)內(nèi)第一張5代TFT用掩膜版
      2010年5月  國(guó)內(nèi)第一張6代TFT用掩膜版
      2010年6月  國(guó)內(nèi)第一張AMOLED用掩膜版測(cè)試版
      2011年4月  國(guó)內(nèi)第一張8096 TP掩膜版
      2012年1月  國(guó)內(nèi)第一張4.5代AMOLED用掩膜版
      2014年4月  國(guó)內(nèi)第一張8.5代TFT-LCD掩膜版
      2015年2月  國(guó)內(nèi)第一張5.5代LTPS用掩膜版
      2016年10月  國(guó)內(nèi)第一張6代LTPS用掩膜版
      2019年9月  國(guó)內(nèi)第一張6代LTPS用掩膜版
      2019年10月  國(guó)內(nèi)第一張8.6代GTM用掩膜版
      2021年3月  國(guó)內(nèi)第一張Lens Mura CD補(bǔ)正掩膜版
      2021年3月  國(guó)內(nèi)第一張Mura全管控混切面板掩膜版
      2023年7月  國(guó)內(nèi)第一張6代AMOLED高精度掩膜版(980*1150)

       

      設(shè)備研發(fā)

       

      時(shí)間 研發(fā)成果
      2003年12月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)高精度長(zhǎng)尺寸測(cè)量?jī)x
      2006年5月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)LCVD設(shè)備研制成功
      2007年3月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)CD測(cè)量機(jī)、第一臺(tái)貼膜機(jī)
      2010年5月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)PDP壁障修補(bǔ)機(jī)
      2011年3月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)TFT面板修補(bǔ)設(shè)備
      2012年5月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)TFT檢查設(shè)備
      2015年12月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)LRCD1500型LCVD修補(bǔ)機(jī)
      2018年5月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)8.5代CD測(cè)量機(jī)
      2018年11月  國(guó)內(nèi)第一臺(tái)8.5代貼膜機(jī)

       

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